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국책연구과제(Government funded R&D projects)

  • "극박막 상복합 소재기반 신소자 및 아키텍쳐 연구", 국가반도체연구실지원핵심기술개발사업 (과제책임), [과기부, 2023.4-2027.12]
  • "결정-비정질 나노콤포지트 극박막 특이전도 소재 개발 및 다진법컴퓨팅 응용기술 검증", 미래기술연구실사업 (과제책임), [과기부, 2022.10-2027.6]

  • "극박막 상복합 소재 기반 특이전도 소자 구현 및 공정 최적화를 통한 고집적 특화회로 구현", 선도연구센터사업 (참여) [ 과기부, 2023-2032]

  • "반도체 구조 결함 개선용 중수소 고압 Annealing 장비 개발", 산업기술혁신사업 (참여), [산업부, 2023.4 - 2026.12]

산학과제/내부과제 (Industry funded projects/ Internal projects)

  • "저온강유전체 HZO 특성개선 공정개발 및 전기적 특성분석", 삼성전자 산학과제 [삼성전자, 2023.2-2025.2]
  • "3차원집적공정을 위한 하프니아/지르코니아 기반 강유전체/반강유전체의 저온 RGB 레이저열처리 공정개발", LINC 산학공동개발과제 [포스텍, 2022.3-2024.2]
  • "Zetta-Green electronics center", 글로컬센터과제 [포스텍, 2024-2027]

인력양성과제(Educational projects)

  • "반도체인프라활용 현장인력양성", 반도체인프라활용현장인력양성사업 (참여), [산업부, 2022.7-2027.6]

Past projects

  • "Multi-level Ferroelectric materials (멀티레벨 강유전 소재 연구)", 미래소재 디스커버리사업 (참여), [과기부, 2017.9 – 2023.8]
  • "한국형나노종합반도체연구소 설립방안 기획연구", (과제책임) [과기부, 2021.12-2023.7]
  • Hybrid interface – Creative 3D integration Technology for Intelligent System (하이브리드 인터페이스-인공두뇌급 두뇌개발을 위한 3차원 집적 원천기술), 글로벌프론티어사업, 과기부 [2014.1 – 2022.8, 종료평가 S등급]
  • 나노인프라 R&D 역량강화 방안 기획연구, 과기부 [2021.03-2022.03]
  • Design and application study of multilevel logic materials and devices (멀티레벨 소재 설계 및 응용연구), 미래소재디스커버리사업, 미래부 [2015.12 – 2021.12, 종료평가 A등급]
  • 그래핀 배리스터기반 삼진로직 소자개발 및 집적공정, 아키텍쳐 연구, 나노소재 원천기술개발사업, 과기부 [2016.8 – 2021.7, 종료평가 S등급]
  • 강유전소자용 대안소재 개발, 삼성전자(주) 시스템 LSI [2018.9-2020.12]
  • 로직소자 신뢰성 평가기술 개발, 삼성전자(주) 시스템 LSI [2018.5-2019.4]
  • 그래핀-2D center/그래핀/2D 소자의 전기적 특성분석, 삼성전자(주) 종합기술원 [2017.01-2018.12]
  • Post CMOS semiconductor device for sub 0.7V Vdd (초저전력 tunnel FET 기술개발),” 반도체향 미래소자기술개발 프로그램, 산업융합원천기술개발 사업, 산업부 [2013.6 – 2018.5]
  • Neuromorphic semiconductor device and its applications (뉴로모픽 반도체 소자 응용기술), 미래융합파이오니어사업, 미래부 [2012.9 – 2018.2]
  • High frequency 영역에서의 capacitor특성분석방법 연구, SK 하이닉스, [2018.03-2019.02, 2016.10 – 2017.09]
  • 22nm Foundry device and PDK technology development (22nm급이하 파운드리 소자 및 PDK 기술개발), 산업융합원천기술개발 사업, 산업부 [2011.05 – 2016.02]
  • Touch Industry Cluster Development Program – Pressure sensitive touch sensor technology (터치클러스터 육성 사업 – 압전방식터치소자개발), 광역경제권 연계협력사업, 산업부 [2011.06-2014.04]
  • 12nm 노드용 고유전절연막 개발 및 그에 따른 전기적 특성 분석방법과 신뢰성 모델 개발, 삼성전자 시스템 LSI [2011.06-2013.09]
  • Extreme low power NEMS-CMOS hybrid devices for bionic applications, World class university program, 세계수준의 연구중심대학 육성사업, 한국연구재단, 교육부 [2008.12 -2013.08]
  • 패턴인식기능을 가진 neuromorphic chip 및 소프트웨어개발, 삼성종합기술원 [2010.12-2012.12]
  • Novel Electrical Characterization methods for Advanced CMOS transistor, External Research Project , Texas Instruments (2011.04-2012.09)
  • Study on the modulation of graphene conductivity using piezoelectric materials, Dasan project ,GIST [2011.1-2011.12], GIST 실용화과제, GIST[2011.06-2012.05]
  • Development of low temperature selective graphene formation process compatible with Si CMOS integration process and its applications, 원천기술 개발 사업, 미래기반기술 개발 사업, 창의탐색 나노분야 과제, 교육과학기술부 [2009.06-2012.05]
  • Development of extreme low power NEMS-CMOS hybrid device,기초연구사업, 핵심연구과제, 교육과학기술부 [2009.05-2012.02]
  • Reconfigurable switch devices using metal oxides for FPGA applications, Int. collaboration program, 반도체 R&D 국제협력사업, 전자부품연구원(지식경제부) (2009.11- 2011.08)
  • Graphene based photovoltaic devices, 녹색성장을 위한 NT-BT-IT 융합기술 연구개발 및 국제협력 기반구축사업, 지식경제부[2010.03-2011.02]
  • Graphene based electromechanical switch (GEMS) devices, Dasan project ,GIST (2008.10-2009.12)