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세미콘 차이나에 마련된 중국 반도체 장비회사 SMEE 전시관./연합뉴스

중국 공업정보화부(MIIT)가 이달 개발에 성공했다고 발표한 반도체 공정 핵심 장비인 심자외선(DUV) 장비가 상용화에 한계가 있을 것이란 분석이 나왔다. 네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광 장비에 이어 DUV 장비 수출 및 기존 장비 유지·보수 중단을 검토 중인 가운데, 중국이 장비 국산화에 어려움을 겪고 있는 형국이다.

24일 시장조사업체 트렌드포스에 따르면, MIIT가 발표한 중국 반도체 장비 기업 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)의 DUV 장비는 노광 공정의 핵심인 해상도와 회로의 정렬 상태를 측정하는 오버레이 기술 등의 한계로 40㎚(나노미터 ·10억분의 1m) 이하 공정에서 활용하기가 어려운 수준이다. 트렌드포스는 “8㎚ 이하 첨단 공정의 경우 해상도가 38㎚ 이하여야 하지만, 해당 장비의 해상도는 65㎚ 이하로 40㎚ 공정도 처리하기가 어렵다”고 분석했다.

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이병훈 포스텍 반도체공학과 교수는 “DUV 장비 국산화는 반도체 제조 기술력과 직결되는 중국 반도체 기술 자립의 핵심 과제”라며 “중국 정부와 기업이 대대적인 투자를 통해 국산화를 추진하고 있지만, 생산라인에 투입돼 제품을 양산해 내기 위해선 얼마나 빠르게 설비를 최적화하고, 이를 사용하는 엔지니어들의 숙련도를 끌어올리느냐가 관건이 될 것”이라고 했다.